Toggle navigation
Publicações
Investigadores
Instituições
0
Entrar
Autenticação Federada
(Clique na imagem)
Autenticação local
Recuperar Palavra-passe
Registar
Entrar
Vasco Manuel Pinto Teixeira
AuthID:
R-000-HE5
Publicações
Confirmadas
Para Validar
Document Source:
All
Document Type:
Todos os Tipos de Documentos
Article (95)
Proceedings Paper (17)
Editorial Material (3)
Correction (1)
Book Chapter (1)
Year Start - End:
1992
1993
1994
1995
1996
1997
1998
1999
2000
2001
2002
2003
2004
2005
2006
2007
2008
2009
2010
2011
2012
2013
2014
2015
2016
2017
2018
2019
2020
2021
2022
2023
2024
-
2024
2023
2022
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2010
2009
2008
2007
2006
2005
2004
2003
2002
2001
2000
1999
1998
1997
1996
1995
1994
1993
1992
Order:
Ano Dsc
Ano Asc
Cit. WOS Dsc
IF WOS Dsc
Cit. Scopus Dsc
IF Scopus Dsc
Título Asc
Título Dsc
Results:
10
20
30
40
50
Publicações Confirmadas: 117
61
TÃTULO:
Iron-doped photocatalytic TiO2 sputtered coatings on plastics for self-cleaning applications
AUTORES:
Carneiro, JO
;
Teixeira, V
; Portinha, A; Magalhaes, A; Newton, R;
Coutinho, P
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
SVC, Society of Vacuum Coaters - 48th Annual Technical Conference
in
Proceedings, Annual Technical Conference - Society of Vacuum Coaters
INDEXADO EM:
Scopus
NO MEU:
ORCID
62
TÃTULO:
Pseudo-dynamic method for structural analysis of automobile seats
AUTORES:
Carneiro, JO
;
de Melo, FJQ
; Pereira, JT;
Teixeira, V
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
PROCEEDINGS OF THE INSTITUTION OF MECHANICAL ENGINEERS PART K-JOURNAL OF MULTI-BODY DYNAMICS,
VOLUME:
219,
NÚMERO:
4
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
Handle
NO MEU:
ORCID
63
TÃTULO:
Residual stress effects on Raman spectra of RuO2 thin films
AUTORES:
Meng, LJ
;
Silva, R
; Cui, HN;
Teixeira, V
;
dos Santos, MP
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
7th International Conference onResidual Strsses (ICRS-7)
in
RESIDUAL STRESSES VII, PROCEEDINGS,
VOLUME:
490-491
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
64
TÃTULO:
Study of the deposition parameters and Fe-dopant effect in the photocatalytic activity of TiO(2) films prepared by dc reactive magnetron sputtering
Full Text
AUTORES:
Carneiro, JO
;
Teixeira, V
; Portinha, A; Dupak, L;
Magalhaes, A
;
Coutinho, P
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
VACUUM,
VOLUME:
78,
NÚMERO:
1
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
65
TÃTULO:
Surface laser-glazing of plasma-sprayed thermal barrier coatings
Full Text
AUTORES:
Batista, C
; Portinha, A;
Ribeiro, RM
;
Teixeira, V
;
Costa, MF
;
Oliveira, CR
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society
in
APPLIED SURFACE SCIENCE,
VOLUME:
247,
NÚMERO:
1-4
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
66
TÃTULO:
The effect of concrete strength and reinforcement on toughness of reinforced concrete beams
Full Text
AUTORES:
Carneiro, JO
;
Jalali, S
;
Teixeira, V
;
Tomas, M
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
CONSTRUCTION AND BUILDING MATERIALS,
VOLUME:
19,
NÚMERO:
7
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
67
TÃTULO:
The modal analysis of a pipe elbow with realistic boundary conditions
Full Text
AUTORES:
Carneiro, JO
;
de Melo, FJQ
;
Rodrigues, JFD
; Lopes, H;
Teixeira, V
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
INTERNATIONAL JOURNAL OF PRESSURE VESSELS AND PIPING,
VOLUME:
82,
NÚMERO:
8
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
7
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
68
TÃTULO:
A real time scale measurement of residual stress evolution during coating deposition using electric extensometry
Full Text
AUTORES:
Carneiro, JO
;
Teixeira, V
; Portinha, A;
Vaz, F
;
Ferreira, JA
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
International Symposium on Nanostructured Materials Mechanics
in
REVIEWS ON ADVANCED MATERIALS SCIENCE,
VOLUME:
7,
NÚMERO:
1
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
69
TÃTULO:
Hardness evaluation of nanolayered PVD coatings using nanoindentation
Full Text
AUTORES:
Carneiro, JO
;
Teixeira, V
; Portinha, A; Dub, SN;
Shmegera, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
REVIEWS ON ADVANCED MATERIALS SCIENCE,
VOLUME:
7,
NÚMERO:
2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
70
TÃTULO:
Physical properties of sputtered ITO and WO3 thin films
AUTORES:
Cui, HN;
Teixeira, V
; Monteiro, A;
Fortunato, E
;
Martins, R
; Bertran, E;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
Adicionar à lista
Marked
Marcar Todas
Exportar
×
Publication Export Settings
BibTex
EndNote
APA
CSV
PDF
Export Preview
Print
×
Publication Print Settings
HTML
PDF
Print Preview
Página 7 de 12. Total de resultados: 117.
<<
<
3
4
5
6
7
8
9
10
11
>
>>
×
Selecione a Fonte
Esta publicação tem:
2 registos no
ISI
2 registos no
SCOPUS
2 registos no
DBLP
2 registos no
Unpaywall
2 registos no
Openlibrary
2 registos no
Handle
Por favor selecione o registo que deve ser utilizado pelo Authenticus.
×
Comparar Publicações
© 2024 CRACS & Inesc TEC - All Rights Reserved
Política de Privacidade
|
Terms of Service