Elvira Maria Correia Fortunato


AuthID: R-000-4M5

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741
TÍTULO: Engineering of a-Si : H device stability by suitable design of interfaces  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Ferreira, I ; Aguas, H ; Silva, V; Fortunato, E ; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS, VOLUME: 73, NÚMERO: 1
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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742
TÍTULO: Growth model of gas species produced by the hot-wire and hot-wire plasma-assisted techniques
AUTORES: Martins, R ; Ferreira, I ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: 1st International Materials Symposium (Materials 2001) in ADVANCED MATERIALS FORUM I, VOLUME: 230-2
INDEXADO EM: Scopus WOS
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743
TÍTULO: High quality a-Si : H films for MIS device applications  Full Text
AUTORES: Aguas, H ; Fortunato, E ; Silva, V; Pereira, L ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: E-MRS 2001 Spring Meeting in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 403
INDEXADO EM: Scopus WOS
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744
TÍTULO: High quality a-Si:H films for MIS device applications  Full Text
AUTORES: Águas, H; Fortunato, E ; Silva, V; Pereira, L ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 403-404
INDEXADO EM: CrossRef
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745
TÍTULO: Highly conductive/transparent ZnO : Al thin films deposited at room temperature by rf magnetron sputtering
AUTORES: Fortunato, E ; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H ; Ferreira, I ; Costa, MEV ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: 1st International Materials Symposium (Materials 2001) in ADVANCED MATERIALS FORUM I, VOLUME: 230-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 1
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746
TÍTULO: Hot-wire plasma assisted chemical vapor deposition: A deposition technique to obtain silicon thin films  Full Text
AUTORES: Ferreira, I ; Fortunato, E ; Martins, R ; Vilarinho, P ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 91, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 1
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747
TÍTULO: Influence of a DC grid on silane r.f. plasma properties  Full Text
AUTORES: Hugo Águas; Elvira Fortunato ; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Vacuum, VOLUME: 64, NÚMERO: 3-4
INDEXADO EM: CrossRef
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748
TÍTULO: Influence of a DC grid on silane r.f. plasma properties  Full Text
AUTORES: Aguas, H ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: 4th Iberian Vacuum Meeting (IVM-4) in VACUUM, VOLUME: 64, NÚMERO: 3-4
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749
TÍTULO: Influence of hydrogen gas dilution on the properties of silicon-doped thin films prepared by the hot-wire plasma-assisted technique
AUTORES: Ferreira, I ; Vilarinho, P ; Fernandes, F ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: 1st International Materials Symposium (Materials 2001) in ADVANCED MATERIALS FORUM I, VOLUME: 230-2
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750
TÍTULO: Influence of the plasma regime on the structural, optical and transport properties of a-Si : H thin films
AUTORES: Aguas, H ; Martins, R ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: 1st International Materials Symposium (Materials 2001) in ADVANCED MATERIALS FORUM I, VOLUME: 230-2
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