Elvira Maria Correia Fortunato


AuthID: R-000-4M5

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841
TÍTULO: Influence of the deposition pressure on the properties of transparent and conductive ZnO : Ga thin-film produced by r.f. sputtering at room temperature  Full Text
AUTORES: Assuncao, V; Fortunato, E ; Marques, A; Aguas, H ; Ferreira, I ; Costa, MEV ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th Symposium on Thin Films for Large Area Electronics held at the EMRS 2002 Spring Conference in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2
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842
TÍTULO: Influence of the deposition pressure on the properties of transparent and conductive ZnO:Ga thin-film produced by r.f. sputtering at room temperature  Full Text
AUTORES: Assunção, V; Fortunato, E ; Marques, A; Águas, H; Ferreira, I; M.E.V Costa; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2
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843
TÍTULO: Large Area Deposition of Polymorphous Silicon by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at 27.12 MHz and 13.56 MHz
AUTORES: Águas, H; Silva, V; Fortunato, E ; Lebib, S; Roca i Cabarrocas, P; Ferreira, I; Guimarães, L; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Jpn. J. Appl. Phys. - Japanese Journal of Applied Physics, VOLUME: 42, NÚMERO: Part 1, No. 8
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844
TÍTULO: Large area deposition of polymorphous silicon by plasma enhanced chemical vapor deposition at 27.12 MHz and 13.56 MHz
AUTORES: Aguas, H ; Silva, V; Fortunato, E ; Lebib, S; Cabarrocas, PRI; Ferreira, I ; Guimaraes, L; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, VOLUME: 42, NÚMERO: 8
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845
TÍTULO: New challenges on gallium-doped zinc oxide films prepared by r.f. magnetron sputtering  Full Text
AUTORES: Assuncao, V; Fortunato, E ; Marques, A; Goncalves, A; Ferreira, I ; Aguas, H ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th International Conference on Coatings on Glass in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 442, NÚMERO: 1-2
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846
TÍTULO: New challenges on gallium-doped zinc oxide films prepared by r.f. magnetron sputtering  Full Text
AUTORES: Vitor Assunção; Elvira Fortunato ; António Marques; Alexandra Gonçalves; Isabel Ferreira; Hugo Águas; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 442, NÚMERO: 1-2
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847
TÍTULO: Polymorphous silicon deposited in large area reactor at 13 and 27 MHz  Full Text
AUTORES: Aguas, H ; Cabarrocas, PRI; Lebib, S; Silva, V; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th Symposium on Thin Films for Large Area Electronics held at the EMRS 2002 Spring Conference in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2
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848
TÍTULO: Polymorphous silicon deposited in large area reactor at 13 and 27 MHz  Full Text
AUTORES: Águas, H; Roca i Cabarrocas, P; Lebib, S; Silva, V; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2
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849
TÍTULO: Polymorphous silicon films deposited at 27.12 MHz  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Aguas, H ; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Lebib, S; I Cabarrocas, PR; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Chemical Vapor Deposition, VOLUME: 9, NÚMERO: 6
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850
TÍTULO: Polymorphous Silicon Films Deposited at 27.12 MHz
AUTORES: Martins, R; Aguas, H; Ferreira, I; Fortunato, E ; Lebib, S; Roca i Cabarrocas, P; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Advanced Materials, VOLUME: 15, NÚMERO: 24
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