81
TÍTULO: Properties of indium tin oxide films prepared by rf reactive magnetron sputtering at different substrate temperature  Full Text
AUTORES: Meng, LJ ; dos Santos, MP ;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 322, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
82
TÍTULO: Characterization of titanium nitride films prepared by dc reactive magnetron sputtering at different nitrogen pressures  Full Text
AUTORES: Meng, LJ ; dosSantos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 90, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
83
TÍTULO: Properties of indium tin oxide (ITO) films prepared by rf reactive magnetron sputtering at different pressures  Full Text
AUTORES: Meng, LJ ; dosSantos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 303, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
84
TÍTULO: Study of the effect of the oxygen partial pressure on the properties of rf reactive magnetron sputtered tin-doped indium oxide films  Full Text
AUTORES: Meng, LJ ; dos Santos, MP ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 120, NÚMERO: 3-4
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
85
TÍTULO: Stress analysis of titanium dioxide films by Raman scattering and x-ray diffraction methods
AUTORES: Li-jian Meng ; dos Santos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: Proceedings of the 1996 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 436
INDEXADO EM: Scopus
86
TÍTULO: Structure effect on electrical properties of ITO films prepared by RF reactive magnetron sputtering  Full Text
AUTORES: Meng, LJ ; dosSantos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 289, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
87
TÍTULO: CHARACTERIZATION OF ZNO FILMS PREPARED BY DE REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING AT DIFFERENT OXYGEN PARTIAL PRESSURES  Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: 4th European Vacuum Conference (EVC-4)1st Swedish Vacuum Meeting (SVM-1) in VACUUM, VOLUME: 46, NÚMERO: 8-10
INDEXADO EM: Scopus WOS
88
TÍTULO: DEPOSITION AND PROPERTIES OF TITANIUM NITRIDE FILMS PRODUCED BY DC REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING  Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; AZEVEDO, A; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: VACUUM, VOLUME: 46, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: Scopus WOS
89
TÍTULO: STUDY OF ANNEALED INDIUM TIN OXIDE-FILMS PREPARED BY RF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING  Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; MACARICO, A; MARTINS, R ;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: VACUUM, VOLUME: 46, NÚMERO: 7
INDEXADO EM: Scopus WOS
90
TÍTULO: DIRECT-CURRENT REACTIVE MAGNETRON-SPUTTERED ZINC-OXIDE THIN-FILMS - THE EFFECT OF THE SPUTTERING PRESSURE  Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 250, NÚMERO: 1-2
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