Luís António Carvalho Gachineiro da Cunha


AuthID: R-000-9BG

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81
TÍTULO: Structural stability of decorative ZrNxOy thin films  Full Text
AUTORES: Carvalho, P; Vaz, F ; Rebouta, L ; Carvalho, S ; Cunha, L ; Goudeau, P; Riviere, JP; Alves, E ; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 9th International Conference on Plasma Surface Engineering in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 200, NÚMERO: 1-4
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 20
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82
TÍTULO: Structural, electrical, optical, and mechanical characterizations of decorative ZrOxNy thin films  Full Text
AUTORES: Carvalho, P; Vaz, F ; Rebouta, L ; Cunha, L ; Tavares, CJ ; Moura, C ; Alves, E ; Cavaleiro, A ; Goudeau, P; Le Bourhis, E; Riviere, JP; Pierson, JF; Banakh, O;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 98, NÚMERO: 2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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83
TÍTULO: Corrosion behaviour of single layered ZrN xO y thin films in artificial sweat solutions
AUTORES: Ariza, E ; Rocha, LA; Ferreira, SC; Vaz, F ; Cunha, L ; Carvalho, P; Rebouta, L ; Alves, E ; Ph Goudeau; Riviere, JP;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: European Corrosion Conference: Long Term Prediction and Modelling of Corrosion, EUROCORR 2004 in EUROCORR 2004 - European Corrosion Conference: Long Term Prediction and Modelling of Corrosion
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84
TÍTULO: Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputtering  Full Text
AUTORES: Ariza, E ; Rocha, LA ; Vaz, F ; Cunha, L ; Ferreira, SC; Carvalho, P; Rebouta, L ; Alves, E ; Goudeau, P; Riviere, JP;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 31st International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 469, NÚMERO: SPEC. ISS.
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85
TÍTULO: Effect of substrate bias voltage on amorphous Si-C-N films produced by PVD techniques  Full Text
AUTORES: Cunha, L ; Moura, C ; Leme, J; Andres, G; Pischow, K;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 30th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 447
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86
TÍTULO: Property change in ZrNxOy thin films: effect of the oxygen fraction and bias voltage  Full Text
AUTORES: Vaz, F ; Carvalho, P; Cunha, L ; Rebouta, L ; Moura, C ; Alves, E ; Ramos, AR ; Cavaleiro, A ; Goudeau, P; Riviere, JP;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 31st International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 469, NÚMERO: SPEC. ISS.
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 52
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87
TÍTULO: Raman analysis of Si-C-N films grown by reactive magnetron sputtering  Full Text
AUTORES: Liang, EJ; Zhang, JW; Leme, J; Moura, C ; Cunha, L ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 31st International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 469, NÚMERO: SPEC. ISS.
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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88
TÍTULO: Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si-C-N films produced by PVD techniques  Full Text
AUTORES: Moura, C ; Cunha, L ; Orfao, H; Pischow, K; De Rijk, J; Rybinski, M; Mrzyk, D;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 8th International Conference on Plasma Surface Engineering in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 174
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89
TÍTULO: Properties of PVD coatings on a brass substrate
AUTORES: Dobrzanski, LA; Lukaszkowicz, K; Cunha, L ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 2nd International Conference on Advanced Materials Processing in ADVANCED MATERIALS PROCESSING II, VOLUME: 437-4
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90
TÍTULO: Performance of chromium nitride and titanium nitride coatings during plastic injection moulding  Full Text
AUTORES: Cunha, L ; Andritschky, M ; Pischow, K; Wang, Z; Zarychta, A; Miranda, AS ; Cunha, AM ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 153, NÚMERO: 2-3
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