David Navas Otero
AuthID: R-004-VZZ
81
TÃTULO: Nickel nanowire arrays based on imprint lithography
AUTORES: Nielsch K.; Choi J.; Hertel R.; Wehrspohn R.B.; Navas D.; Vázquez M.; Melle S.; Armelles G.; Fischer S.F.; Gösele U.;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Digests of the Intermag Conference
AUTORES: Nielsch K.; Choi J.; Hertel R.; Wehrspohn R.B.; Navas D.; Vázquez M.; Melle S.; Armelles G.; Fischer S.F.; Gösele U.;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Digests of the Intermag Conference
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ORCID82
TÃTULO: Nickel nanowire arrays based on imprint lithography
AUTORES: Nielsch K.; Choi J.; Hertel R.; Wehrspohn R.B.; Navas D.; Vázquez M.; Melle S.; Armelles G.; Fischer S.F.; Gösele U.;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Intermag 2003 - Program of the 2003 IEEE International Magnetics Conference
AUTORES: Nielsch K.; Choi J.; Hertel R.; Wehrspohn R.B.; Navas D.; Vázquez M.; Melle S.; Armelles G.; Fischer S.F.; Gösele U.;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Intermag 2003 - Program of the 2003 IEEE International Magnetics Conference
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ORCID83
TÃTULO: Magneto-optical properties of nickel nanowire arrays
AUTORES: Melle, S; Menéndez, JL; Armelles, G; Navas, D; Vázquez, M; Nielsch, K; Wehrspohn, RB; Gösele, U;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 83, NÚMERO: 22
AUTORES: Melle, S; Menéndez, JL; Armelles, G; Navas, D; Vázquez, M; Nielsch, K; Wehrspohn, RB; Gösele, U;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 83, NÚMERO: 22
