Rodrigo Ferrao Paiva Martins
AuthID: R-000-FKV
341
TÃTULO: UV and ozone influence on the conductivity of ZnO thin films Full Text
AUTORES: Gonçalves, G; Pimentel, A; Fortunato, E ; Martins, R; E.L Queiroz; R.F Bianchi; R.M Faria;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20
AUTORES: Gonçalves, G; Pimentel, A; Fortunato, E ; Martins, R; E.L Queiroz; R.F Bianchi; R.M Faria;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20
342
TÃTULO: Preface Full Text
AUTORES: Martins, R; Chu, V; Fortunato, E ; J.P Conde; Ferreira, I;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20
AUTORES: Martins, R; Chu, V; Fortunato, E ; J.P Conde; Ferreira, I;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20
343
TÃTULO: Selectively excited photoluminescence from Eu-implanted GaN Full Text
AUTORES: Wang, K; Martin, RW; O'Donnell, KP; Katchkanov, V; Nogales, E; Lorenz, K ; Alves, E ; Ruffenach, S; Briot, O;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 87, NÚMERO: 11
AUTORES: Wang, K; Martin, RW; O'Donnell, KP; Katchkanov, V; Nogales, E; Lorenz, K ; Alves, E ; Ruffenach, S; Briot, O;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 87, NÚMERO: 11
344
TÃTULO: In-situ high temperature texture characterisation in NiTi shape memory alloy using synchrotron radiation
AUTORES: Paula, AS; Mahesh, KK; Fernandes, FMB ; Martinsz, RMS; Cardoso, AMA; Schell, N;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 14th International Conference on Textures of Materials in ICOTOM 14: TEXTURES OF MATERIALS, PTS 1AND 2, VOLUME: 495-497, NÚMERO: PART 1
AUTORES: Paula, AS; Mahesh, KK; Fernandes, FMB ; Martinsz, RMS; Cardoso, AMA; Schell, N;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 14th International Conference on Textures of Materials in ICOTOM 14: TEXTURES OF MATERIALS, PTS 1AND 2, VOLUME: 495-497, NÚMERO: PART 1
INDEXADO EM: 
Scopus 
WOS
Scopus WOS345
TÃTULO: Linearity and sensitivity of MIS position sensitive detectors Full Text
AUTORES: águas, H; Pereira, L ; Costa, D; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: J Mater Sci - Journal of Materials Science, VOLUME: 40, NÚMERO: 6
AUTORES: águas, H; Pereira, L ; Costa, D; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: J Mater Sci - Journal of Materials Science, VOLUME: 40, NÚMERO: 6
346
TÃTULO: Super linear position sensitive detectors using MIS structures Full Text
AUTORES: Águas, H; Pereira, L ; Costa, D; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: Optical Materials, VOLUME: 27, NÚMERO: 5
AUTORES: Águas, H; Pereira, L ; Costa, D; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: Optical Materials, VOLUME: 27, NÚMERO: 5
347
TÃTULO: Structural and Electrical Characterization of Ferroelectric SrBi 2 Nb 2 O 9 Single Crystals Grown by High-Temperature Self-Flux Solution Full Text
AUTORES: AmoríN, H; Martins, RS; Kholkin, AL; Costa, MEV;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: Ferroelectrics, VOLUME: 320, NÚMERO: 1
AUTORES: AmoríN, H; Martins, RS; Kholkin, AL; Costa, MEV;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: Ferroelectrics, VOLUME: 320, NÚMERO: 1
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TÃTULO: High-temperature annealing and optical activation of Eu-implanted GaN Full Text
AUTORES: Lorenz, K ; Wahl, U ; Alves, E ; Dalmasso, S; Martin, RW; O'Donnell, KP; Ruffenach, S; Briot, O;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 85, NÚMERO: 14
AUTORES: Lorenz, K ; Wahl, U ; Alves, E ; Dalmasso, S; Martin, RW; O'Donnell, KP; Ruffenach, S; Briot, O;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 85, NÚMERO: 14
349
TÃTULO: Mass spectrometric studies of azides: reactions of Ar+ with 3-azidopropionitrile, 2-azidopropionitrile, and azidoacetonitrile in a Fourier transform ion cyclotron resonance mass spectrometer Full Text
AUTORES: Barros, MT ; Beyer, MK; Costa, ML ; Duarte, MF ; Fernandez, MT ; Martins, F; Rodrigues, P; Watts, P;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF MASS SPECTROMETRY, VOLUME: 237, NÚMERO: 1
AUTORES: Barros, MT ; Beyer, MK; Costa, ML ; Duarte, MF ; Fernandez, MT ; Martins, F; Rodrigues, P; Watts, P;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF MASS SPECTROMETRY, VOLUME: 237, NÚMERO: 1
350
TÃTULO: Silicon etching in CF(4)/O(2) and SF(6) atmospheres
AUTORES: Silva, A; Raniero, L; Ferreira, E; Aguas, H ; Pereira, L ; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456
AUTORES: Silva, A; Raniero, L; Ferreira, E; Aguas, H ; Pereira, L ; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456
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