Koppole Chandra Sekhar
AuthID: R-000-VVQ
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TÃTULO: Progress and perspective on different strategies to achieve wake-up-free ferroelectric hafnia and zirconia-based thin films
AUTORES: Silva, J. P. B.; Sekhar, K. C.; Negrea, R. F.; MacManus Driscoll, J. L.; Pintilie, L.;
PUBLICAÇÃO: 2022, FONTE: APPLIED MATERIALS TODAY, VOLUME: 26
AUTORES: Silva, J. P. B.; Sekhar, K. C.; Negrea, R. F.; MacManus Driscoll, J. L.; Pintilie, L.;
PUBLICAÇÃO: 2022, FONTE: APPLIED MATERIALS TODAY, VOLUME: 26
INDEXADO EM: 
Scopus 
WOS
Scopus WOS12
TÃTULO: Automobile exhaust nanocatalysts
AUTORES: Alex, KV; Kamakshi, K; Silva, JPB; Sathish, S; Sekhar, KC;
PUBLICAÇÃO: 2022, FONTE: Nanotechnology in the Automotive Industry
AUTORES: Alex, KV; Kamakshi, K; Silva, JPB; Sathish, S; Sekhar, KC;
PUBLICAÇÃO: 2022, FONTE: Nanotechnology in the Automotive Industry
INDEXADO EM: Scopus
Scopus13
TÃTULO: Semiconductor/relaxor 0-3 type composites: A novel strategy for energy storage capacitors
AUTORES: Jayakrishnan, AR; Silva, JPB; Kamakshi, K; Annapureddy, V; Mercioniu, IF; Sekhar, KC;
PUBLICAÇÃO: 2021, FONTE: JOURNAL OF SCIENCE-ADVANCED MATERIALS AND DEVICES, VOLUME: 6, NÚMERO: 1
AUTORES: Jayakrishnan, AR; Silva, JPB; Kamakshi, K; Annapureddy, V; Mercioniu, IF; Sekhar, KC;
PUBLICAÇÃO: 2021, FONTE: JOURNAL OF SCIENCE-ADVANCED MATERIALS AND DEVICES, VOLUME: 6, NÚMERO: 1
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TÃTULO: Advances in Dielectric Thin Films for Energy Storage Applications, Revealing the Promise of Group IV Binary Oxides
AUTORES: Silva, JPB; Sekhar, KC; Pan, H; MacManus Driscoll, JL; Pereira, M ;
PUBLICAÇÃO: 2021, FONTE: ACS ENERGY LETTERS, VOLUME: 6, NÚMERO: 6
AUTORES: Silva, JPB; Sekhar, KC; Pan, H; MacManus Driscoll, JL; Pereira, M ;
PUBLICAÇÃO: 2021, FONTE: ACS ENERGY LETTERS, VOLUME: 6, NÚMERO: 6
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TÃTULO: Wake-up Free Ferroelectric Rhombohedral Phase in Epitaxially Strained ZrO2 Thin Films
AUTORES: Silva, JPB; Negrea, RF; Istrate, MC; Dutta, S; Aramberri, H; Iniguez, J; Figueiras, FG ; Ghica, C; Sekhar, KC; Kholkin, AL;
PUBLICAÇÃO: 2021, FONTE: ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, VOLUME: 13, NÚMERO: 43
AUTORES: Silva, JPB; Negrea, RF; Istrate, MC; Dutta, S; Aramberri, H; Iniguez, J; Figueiras, FG ; Ghica, C; Sekhar, KC; Kholkin, AL;
PUBLICAÇÃO: 2021, FONTE: ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, VOLUME: 13, NÚMERO: 43
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TÃTULO: Microstructure tailoring for enhancing the energy storage performance of 0.98[0.6Ba(Zr0.2Ti0.8)O-3-0.4(Ba0.7Ca0.3)TiO3]-0.02BiZn(1/2)Ti(1/2)O(3) ceramic capacitors
AUTORES: Jayakrishnan, AR; Yadav, PVK; Silva, JPB; Sekhar, KC;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF SCIENCE-ADVANCED MATERIALS AND DEVICES, VOLUME: 5, NÚMERO: 1
AUTORES: Jayakrishnan, AR; Yadav, PVK; Silva, JPB; Sekhar, KC;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF SCIENCE-ADVANCED MATERIALS AND DEVICES, VOLUME: 5, NÚMERO: 1
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TÃTULO: Robust resistive switching performance of pulsed laser deposited SiC/Ag/SiC tri-layer thin films deposited on a glass substrate
AUTORES: Kamakshi, K; Silva, JPB; Kumar, NSK; Sekhar, KC; Pereira, M ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: MRS COMMUNICATIONS, VOLUME: 10, NÚMERO: 2
AUTORES: Kamakshi, K; Silva, JPB; Kumar, NSK; Sekhar, KC; Pereira, M ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: MRS COMMUNICATIONS, VOLUME: 10, NÚMERO: 2
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TÃTULO: Perovskite ferroelectric thin film as an efficient interface to enhance the photovoltaic characteristics of Si/SnO(x)heterojunctions
AUTORES: Silva, JPB; Vieira, EMF; Silva, JMB; Gwozdz, K; Figueiras, FG ; Veltruska, K; Matolin, V; Istrate, MC; Ghica, C; Sekhar, KC; Kholkin, AL; Goncalves, LM ; Chahboun, A; Pereira, M ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A, VOLUME: 8, NÚMERO: 22
AUTORES: Silva, JPB; Vieira, EMF; Silva, JMB; Gwozdz, K; Figueiras, FG ; Veltruska, K; Matolin, V; Istrate, MC; Ghica, C; Sekhar, KC; Kholkin, AL; Goncalves, LM ; Chahboun, A; Pereira, M ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A, VOLUME: 8, NÚMERO: 22
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TÃTULO: Energy storage performance of ferroelectric ZrO(2)film capacitors: effect of HfO2:Al(2)O(3)dielectric insert layer Full Text
AUTORES: Silva, JPB; Silva, JMB; Sekhar, KC; Palneedi, H; Istrate, MC; Negrea, RF; Ghica, C; Chahboun, A; Pereira, M ; Gomes, MJM ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A, VOLUME: 8, NÚMERO: 28
AUTORES: Silva, JPB; Silva, JMB; Sekhar, KC; Palneedi, H; Istrate, MC; Negrea, RF; Ghica, C; Chahboun, A; Pereira, M ; Gomes, MJM ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A, VOLUME: 8, NÚMERO: 28
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TÃTULO: HfO2-Al2O3 Dielectric Layer for a Performing Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor Structure with a Ferroelectric 0.5Ba(Zr0.2Ti0.8)O-3-0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3 Thin Film
AUTORES: Jose P B Silva; Koppole C Sekhar; Katerina Veltrusk; Vladimir Matolin; Raluca F Negrea; Corneliu Ghica; Marcelo J S Oliveira; Joaquim Agostinho Moreira ; Mario Pereira ; Maria J M Gomes ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS, VOLUME: 2, NÚMERO: 9
AUTORES: Jose P B Silva; Koppole C Sekhar; Katerina Veltrusk; Vladimir Matolin; Raluca F Negrea; Corneliu Ghica; Marcelo J S Oliveira; Joaquim Agostinho Moreira ; Mario Pereira ; Maria J M Gomes ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS, VOLUME: 2, NÚMERO: 9
