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Low Filament Temperature Deposition of A-Si:h by Catalytic Chemical Vapor Deposition
AuthID
P-00J-2AC
6
Author(s)
Brogueira, P
·
Grebner, S
·
Wang, F
·
schwarz, R
·
Chu, V
·
Conde, J
Tipo de Documento
Article
Year published
1993
Publicado
in
MRS Proc. - MRS Proceedings,
ISSN: 1946-4274
Volume: 297
Indexing
Crossref
®
Google Scholar
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Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.1557/proc-297-121
Source Identifiers
ISSN
: 1946-4274
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