Nuno Pessoa Barradas


AuthID: R-000-DV0

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TÍTULO: The influence of the nanostructure design on the corrosion behaviour of TiN thin films prepared by glancing angle deposition  Full Text
AUTORES: Lopes, Claudia; Alves, Alexandra C. ; Ferreira, Armando; Alves, Eduardo; Barradas, Nuno Pessoa ; Borsan, Ioana; Munteanu, Daniel; Vaz, Filipe ;
PUBLICAÇÃO: 2025, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 329
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TÍTULO: Addressing forensic science challenges with nuclear analytical techniques – A review  Full Text
AUTORES: Simon A.; Pessoa P Barradas ; Jeynes C.; Romolo F.S.;
PUBLICAÇÃO: 2024, FONTE: Forensic Science International, VOLUME: 358
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TÍTULO: Corrigendum to “The influence of the nanostructure design on the optical, electrical and thermal properties of TiNx thin films prepared by reactive magnetron sputtering” [Mater. Chem. Phys. 306 (2023) 127981] (Materials Chemistry and Physics (2023) 306, (S0254058423006892), (10.1016/j.matchemphys.2023.127981))  Full Text
AUTORES: Claudia Lopes; Marco Rodrigues; Armando Ferreira; Francisco Macedo; Ioana Borsan; Camelia Gabor; Mihai-Alin Pop; Eduardo Alves; Nuno Barradas ; Daniel Munteanu; Filipe Vaz;
PUBLICAÇÃO: 2024, FONTE: Materials Chemistry and Physics, VOLUME: 315
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TÍTULO: Evaluation of Performance and Longevity of Ti-Cu Dry Electrodes: Degradation Analysis Using Anodic Stripping Voltammetry  Full Text
AUTORES: Carvalho, Daniel; Rodrigues, Ana Margarida; Santos, Joao; Geraldo, Dulce ; Ferreira, Armando; Correa, Marcio Assolin; Alves, Eduardo; Barradas, Nuno Pessoa ; Lopes, Claudia; Vaz, Filipe ;
PUBLICAÇÃO: 2024, FONTE: SENSORS, VOLUME: 24, NÚMERO: 23
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5
TÍTULO: Amorphous carbon thin films: Mechanisms of hydrogen incorporation during magnetron sputtering and consequences for the secondary electron emission
AUTORES: Adame, C. F.; Alves, E. ; Barradas, N. P. ; Pinto, P. Costa; Delaup, Y.; Ferreira, I. M. M.; Neupert, H.; Himmerlich, M.; Pfeiffer, S.; Rimoldi, M.; Taborelli, M.; Teodoro, O. M. N. D.; Bundaleski, N. ;
PUBLICAÇÃO: 2023, FONTE: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, VOLUME: 41, NÚMERO: 4
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6
TÍTULO: Artificial neural networks for NAA: proof of concept on data analysed with k0-based software  Full Text
AUTORES: Pessoa P Barradas ; Farjallah N.; Vieira A.; Blaauw M.;
PUBLICAÇÃO: 2023, FONTE: Journal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry, VOLUME: 332, NÚMERO: 8
INDEXADO EM: Scopus CrossRef: 1
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7
TÍTULO: The 2021 IAEA software intercomparison for k<inf>0</inf>-INAA  Full Text
AUTORES: Menno Blaauw; Giancarlo D’Agostino; Marco di Luzio; Ho Manh Dung; Radojko Jacimovic; Mauro Da Silva Dias; Renato Semmler; Robbert van Sluijs; Nuno Pessoa Barradas ;
PUBLICAÇÃO: 2023, FONTE: Journal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry, VOLUME: 332, NÚMERO: 8
INDEXADO EM: Scopus CrossRef: 4
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8
TÍTULO: The influence of Sb doping on the local structure and disorder in thermoelectric ZnO:Sb thin films
AUTORES: Ribeiro, Joana M.; Rodrigues, Frederico J.; Correia, Filipe C.; Pudza, Inga; Kuzmin, Alexei; Kalinko, Aleksandr; Welter, Edmund; Barradas, Nuno P. ; Alves, Eduardo ; LaGrow, Alec P.; Bondarchuk, Oleksandr; Welle, Alexander; Telfah, Ahmad; Tavares, Carlos J.;
PUBLICAÇÃO: 2023, FONTE: JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, VOLUME: 939
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9
TÍTULO: The influence of the nanostructure design on the optical, electrical and thermal properties of TiNx thin films prepared by reactive magnetron sputtering  Full Text
AUTORES: Lopes, Claudia; Rodrigues, Marco S.; Ferreira, Armando; Macedo, Francisco; Borsan, Ioana; Gabor, Camelia; Pop, Mihai Alin; Alves, Eduardo ; Barradas, Nuno P. ; Munteanu, Daniel; Vaz, Filipe ;
PUBLICAÇÃO: 2023, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 306
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10
TÍTULO: The Role of Hydrogen Incorporation into Amorphous Carbon Films in the Change of the Secondary Electron Yield
AUTORES: Nenad Bundaleski ; Carolina F Adame; Eduardo Alves ; Nuno P Barradas ; Maria F Cerqueira; Jonas Deuermeier; Yorick Delaup; Ana M Ferraria; Isabel M M Ferreira; Holger Neupert; Marcel Himmerlich; Ana Maria do B d Rego; Martino Rimoldi; Orlando M N D Teodoro; Mikhail Vasilevskiy ; Pedro Costa Pinto;
PUBLICAÇÃO: 2023, FONTE: International Journal of Molecular Sciences, VOLUME: 24, NÚMERO: 16
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