Elvira Maria Correia Fortunato


AuthID: R-000-4M5

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691
TÍTULO: Polycrystalline silicon obtained by metal induced crystallization using different metals  Full Text
AUTORES: Pereira, L ; Aguas, H ; Martins, RMS; Vilarinho, P ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: Symposium on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 451
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 28
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692
TÍTULO: Porous a/nc-Si : H films produced by HW-CVD as ethanol vapour detector and primary fuel cell  Full Text
AUTORES: Ferreira, I ; Igreja, R ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 17th European Conference on Solid-State Transducers (Eurosensors XVII) in SENSORS AND ACTUATORS B-CHEMICAL, VOLUME: 103, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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693
TÍTULO: Properties of a-Si : H intrinsic films produced by HWPA-CVD technique  Full Text
AUTORES: Ferreira, I ; Aguas, H ; Pereira, L ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: Symposium on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 451
INDEXADO EM: Scopus WOS
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694
TÍTULO: Properties of a-Si : H TFTs using silicon carbonitride as dielectric  Full Text
AUTORES: Lavareda, G ; de Carvalho, CN ; Fortunato, E ; Amaral, A ; Ramos, AR ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 338, NÚMERO: 1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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695
TÍTULO: Properties of ITO films deposited by plasma enhanced RTE on unheated polymer sheets - dependence on rf electrode distance from substrates  Full Text
AUTORES: de Carvalho, CN ; Lavareda, G ; Fortunato, E ; Amaral, A ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 338, NÚMERO: 1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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696
TÍTULO: Role of substrate on the growth process of polycrystalline silicon thin films by low-pressure chemical vapour deposition
AUTORES: Pereira, L ; Aguas, H ; Raniero, L; Martins, RMS ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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697
TÍTULO: Role of the rf frequency on the structure and composition of polymorphous silicon films  Full Text
AUTORES: Águas, H; Raniero, L; Pereira, L ; A.S Viana; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 338-340
INDEXADO EM: CrossRef
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698
TÍTULO: Role of the rf frequency on the structure and composition of polymorphous silicon films  Full Text
AUTORES: Aguas, H ; Raniero, L; Pereira, L ; Viana, AS ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 338, NÚMERO: 1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM: Scopus WOS
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699
TÍTULO: Silicon Etching in CF<sub>4</sub>/O<sub>2</sub> and SF<sub>6</sub> Atmospheres
AUTORES: Silva, A; Leandro Raniero; Ferreira, E; Hugo Águas; Luís Pereira; Elvira Fortunato ; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 455-456
INDEXADO EM: CrossRef
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700
TÍTULO: Silicon etching in CF(4)/O(2) and SF(6) atmospheres
AUTORES: Silva, A; Raniero, L; Ferreira, E; Aguas, H ; Pereira, L ; Fortunato, E ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456
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Página 70 de 95. Total de resultados: 950.

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