861
TÍTULO: Thin films applied to integrated optical position-sensitive detectors  Full Text
AUTORES: Fortunato, E ; Soares, F; Lavareda, G ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: 5th European Vacuum Conference (EVC 5) / 10th International Conference on Thin Films (ICTF 10) in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 317, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
862
TÍTULO: Thin oxide interface layers in a-Si : H MIS structures  Full Text
AUTORES: Fortunato, E ; Malik, A; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: 17th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors - Science and Technology (ICAMS 17) in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 227, NÚMERO: PART 2
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863
TÍTULO: Analysis of front contact heterojunction in a-Si:H one-dimensional position sensitive detectors  Full Text
AUTORES: Topic, M; Smole, F; Furlan, J; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, VOLUME: 68, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: Scopus WOS
864
TÍTULO: Dependence of amorphous silicon solar cell performances on the lateral drift current  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Bicho, A; Lavareda, G ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS, VOLUME: 45, NÚMERO: 1
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
865
TÍTULO: High sensitivity photochemical sensors based on amorphous silicon
AUTORES: Fortunato, E ; Malik, A; Seco, A; Macarico, A; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY - 1997, VOLUME: 467
INDEXADO EM: Scopus WOS
866
TÍTULO: Highly conductive and highly transparent n-type microcrystalline silicon thin films  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Macarico, A; Ferreira, I ; Nunes, R; Bicho, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 303, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
867
TÍTULO: Improved a-Si:H TFT performance using a-SiXN1-X/a-SiXC1-X stack dielectrics
AUTORES: Lavareda, G; Fortunato, E ; Carvalho, CN; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Symposium on Flat Panel Display Materials II, at the 1996 MRS Spring Meeting in FLAT PANEL DISPLAY MATERIALS II, VOLUME: 424
INDEXADO EM: WOS
868
TÍTULO: Role of the deposition parameters in the uniformity of films produced by the plasma-enhanced chemical vapour deposition technique
AUTORES: Martins, R ; Macarico, A; Ferreira, I ; Fidalgo, J; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES, VOLUME: 76, NÚMERO: 3
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869
TÍTULO: Role of the gas flow parameters on the uniformity of films produced by PECVD technique
AUTORES: Martins, R ; Macarico, A; Ferreira, I ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Symposium on Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology in AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE SILICON TECHNOLOGY - 1997, VOLUME: 467
INDEXADO EM: Scopus WOS
870
TÍTULO: Spray-deposited metal oxide films with various properties for micro- and optoelectronic applications: Growth and characterization
AUTORES: Malik, A; Seco, A; Nunes, R; Vieira, M ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Symposium on Flat Panel Display Materials and Large-Area Processes, at the 1997 MRS Spring Meeting in FLAT PANEL DISPLAY MATERIALS III, VOLUME: 471
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 10
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