João Manuel de Almeida Serra


AuthID: R-000-73M

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TÍTULO: Room temperature thin foil SLIM-cut using an epoxy paste: experimental versus theoretical results
AUTORES: Pierre Bellanger; Pierre Olivier Bouchard; Marc Bernacki; Joao Serra ;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: MATERIALS RESEARCH EXPRESS, VOLUME: 2, NÚMERO: 4
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TÍTULO: New Stress Activation Method for Kerfless Silicon Wafering Using Ag/Al and Epoxy Stress-Inducing Layers  Full Text
AUTORES: Pierre Bellanger; Miguel Centeno Brito ; David M Pera; Ivo Costa; Guilherme Gaspar; Roberto Martini; Marteen Debucquoy; Joao M Serra ;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: IEEE JOURNAL OF PHOTOVOLTAICS, VOLUME: 4, NÚMERO: 5
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TÍTULO: Room temperature kerfless silicon thin foils obtained via a stress inducing epoxy layer. Room temperature kerfless silicon thin foils obtained via a stress inducing epoxy layer  Full Text
AUTORES: Joao Serra ; Pierre Bellanger; Pierre O Bouchard; Marc Bernacki;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: European-Materials-Research-Society Spring Meeting / Symposium X on Materials Research for Group IV Semiconductors - Growth, Characterization, and Technological Developments in PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 11, NO 11-12, VOLUME: 11, NÚMERO: 11-12
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TÍTULO: Room temperature spalling of thin silicon foils using a kerfless technique
AUTORES: Pierre Bellanger; Joao Serra ;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: 4th International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics (SiliconPV) in PROCEEDINGS OF THE 4TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON CRYSTALLINE SILICON PHOTOVOLTAICS (SILICONPV 2014), VOLUME: 55
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TÍTULO: Silicon film deposition on crystalline, sintered and powder substrates using an inline optical processing CVD system. Silicon film deposition on crystalline, sintered and powder substrates using an inline optical processing CVD system  Full Text
AUTORES: Andre Augusto; Filipe Serra; Antonio Vallera; Joao M Serra ;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: European-Materials-Research-Society Spring Meeting / Symposium X on Materials Research for Group IV Semiconductors - Growth, Characterization, and Technological Developments in PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 11, NO 11-12, VOLUME: 11, NÚMERO: 11-12
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TÍTULO: Comparative Study of Stress Inducing Layers to Produce Kerfless Thin Wafers by the Slim-cut Technique  Full Text
AUTORES: Serra, JM ; Bellanger, P; Lobato, K; Martini, R; Debucquoy, M; Poortmans, J;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: 39th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC) in 2013 IEEE 39TH PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC)
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TÍTULO: Electric molten zone crystallization of silicon wafers  Full Text
AUTORES: Costa, I; Brito, MC ; Gaspar, G; Serra, JM ; Maia M Alves ; Vallera, A;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY, VOLUME: 28, NÚMERO: 12
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28
TÍTULO: Measurement of the dopant concentration in a semiconductor using the Seebeck effect  Full Text
AUTORES: Pó, JM; Brito, MC ; Maia M Alves ; Silva, JA; Serra, JM ; Vallêra, AM;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: Measurement Science and Technology - Meas. Sci. Technol., VOLUME: 24, NÚMERO: 5
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29
TÍTULO: Measurement of the dopant concentration in a semiconductor using the Seebeck effect  Full Text
AUTORES: Po, JM; Brito, MC ; Maia Alves, JM ; Silva, JA ; Serra, JM ; Vallera, AM;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: MEASUREMENT SCIENCE & TECHNOLOGY, VOLUME: 24, NÚMERO: 5
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30
TÍTULO: Residual stress and dislocations density in silicon ribbons grown via optical zone melting  Full Text
AUTORES: Augusto, A; Pera, D; Choi, HJ; Bellanger, P; Brito, MC ; Maia Alves, JM ; Vallera, AM; Buonassisi, T; Serra, JM ;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 113, NÚMERO: 8
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