Rodrigo Ferrao Paiva Martins
AuthID: R-000-FKV
381
TÃTULO: New steps to improve a-Si:H device stability by design of the interfaces Full Text
AUTORES: Rodrigo Martins; Isabel Ferreira; Ana Cabrita; Hugo Águas; Vitor Silva; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials, VOLUME: 3, NÚMERO: 3
AUTORES: Rodrigo Martins; Isabel Ferreira; Ana Cabrita; Hugo Águas; Vitor Silva; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials, VOLUME: 3, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: 
Scopus 
CrossRef
Scopus CrossRef382
TÃTULO: Influence of the process parameters on structural and electrical properties of r.f. magnetron sputtering ITO films Full Text
AUTORES: Baía, I; Fernandes, B; Nunes, P; Quintela, M; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 383, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Baía, I; Fernandes, B; Nunes, P; Quintela, M; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 383, NÚMERO: 1-2
383
TÃTULO: Role of ion bombardment on the properties of a-Si:H films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
384
TÃTULO: Fast and cheap method to qualitatively measure the thickness and uniformity of ZrO2 thin films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
385
TÃTULO: Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
386
TÃTULO: Silicon films produced by PECVD under powder formation conditions
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
INDEXADO EM: 
WOS
WOS NO MEU: ResearcherID
ResearcherID387
TÃTULO: Plasma diagnostics of a PECVD system using different R.F. electrode configurations Full Text
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
388
TÃTULO: Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films Full Text
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E. ; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E. ; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
389
TÃTULO: Performances exhibited by large area ITO layers produced by r.f. magnetron sputtering Full Text
AUTORES: Baı́a, I; Quintela, M; Mendes, L; Nunes, P; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 337, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Baı́a, I; Quintela, M; Mendes, L; Nunes, P; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 337, NÚMERO: 1-2
390
TÃTULO: New metallurgical systems for electronic soldering applications Full Text
AUTORES: Gonçalves, C; Ferreira, J; Fortunato, E ; Ferreira, I; Martins, R; A.P Marvão; J.I Martins; Harder, T; Oppelt, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 74, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Gonçalves, C; Ferreira, J; Fortunato, E ; Ferreira, I; Martins, R; A.P Marvão; J.I Martins; Harder, T; Oppelt, R;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 74, NÚMERO: 1-3
