Rui Miguel dos Santos Martins
AuthID: R-000-J8Z
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TÃTULO: Nucleation and growth of Ti2AlN thin films deposited by reactive magnetron sputtering onto MgO(111) Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 102, NÚMERO: 7
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 102, NÚMERO: 7
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TÃTULO: In-situ study of Ni–Ti thin film growth on a TiN intermediate layer by X-ray diffraction Full Text
AUTORES: MARTINS, R; SCHELL, N; SILVA, R; PEREIRA, L; MAHESH, K; FERNANDES, F;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: Sensors and Actuators B: Chemical, VOLUME: 126, NÚMERO: 1
AUTORES: MARTINS, R; SCHELL, N; SILVA, R; PEREIRA, L; MAHESH, K; FERNANDES, F;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: Sensors and Actuators B: Chemical, VOLUME: 126, NÚMERO: 1
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TÃTULO: The influence of a poly-Si intermediate layer on the crystallization behaviour of Ni-TiSMA magnetron sputtered thin films Full Text
AUTORES: Martins, RMS; Fernandes, FMB ; Silva, RJC; Pereira, L ; Gordo, PR; Maneira, MJP; Beckers, M; Mucklich, A; Schell, N;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, VOLUME: 83, NÚMERO: 1
AUTORES: Martins, RMS; Fernandes, FMB ; Silva, RJC; Pereira, L ; Gordo, PR; Maneira, MJP; Beckers, M; Mucklich, A; Schell, N;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, VOLUME: 83, NÚMERO: 1
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TÃTULO: Microstructure and nonbasal-plane growth of epitaxial Ti2AlN thin films Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 99, NÚMERO: 3
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 99, NÚMERO: 3
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TÃTULO: Phase stability of epitaxially grown Ti2AlN thin films Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 89, NÚMERO: 7
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 89, NÚMERO: 7
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TÃTULO: The influence of the growth rate on the preferred orientation of magnetron-sputtered Ti-Al-N thin films studied by in situ x-ray diffraction Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 98, NÚMERO: 4
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 98, NÚMERO: 4
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TÃTULO: Influence of the substrate bias on the size and thermal stability of grains in magnetron-sputtered nanocrystalline Ag films
AUTORES: Almtoft, KP; Bottiger, J; Chevallier, J; Schell, N; Martins, RMS;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, VOLUME: 20, NÚMERO: 4
AUTORES: Almtoft, KP; Bottiger, J; Chevallier, J; Schell, N; Martins, RMS;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, VOLUME: 20, NÚMERO: 4
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TÃTULO: In situ x-ray diffraction studies concerning the influence of Al concentration on the texture development during sputter deposition of Ti-Al-N thin films
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, VOLUME: 23, NÚMERO: 5
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, VOLUME: 23, NÚMERO: 5
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TÃTULO: Polycrystalline silicon obtained by metal induced crystallization using different metals Full Text
AUTORES: Pereira, L ; Aguas, H ; Martins, RMS; Vilarinho, P ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: Symposium on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 451
AUTORES: Pereira, L ; Aguas, H ; Martins, RMS; Vilarinho, P ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: Symposium on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 451
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TÃTULO: Microstructural characterization and properties of a glass and a glass-ceramic made from municipal incinerator bottom ash
AUTORES: Alendouro, MSJG; Monteiro, RCC ; Figueirdo, CFML; Martins, RMS; Silva, RJC ; Ferro, MC; Fernandes, MHV;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456
AUTORES: Alendouro, MSJG; Monteiro, RCC ; Figueirdo, CFML; Martins, RMS; Silva, RJC ; Ferro, MC; Fernandes, MHV;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456
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