Elvira Maria Correia Fortunato
AuthID: R-000-4M5
511
TÃTULO: Role of the i layer surface properties on the performance of a-Si:H Schottky barrier photodiodes Full Text
AUTORES: Águas, H; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 99, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Águas, H; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Sensors and Actuators A: Physical, VOLUME: 99, NÚMERO: 1-2
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TÃTULO: Study of the Sensing Mechanism of SnO<sub>2</sub> Thin-Film Gas Sensors Using Hall Effect Measurements
AUTORES: Lopes, A; Patrícia Nunes; Paula M Vilarinho; Regina da Conceição Corredeira Monteiro; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Key Engineering Materials, VOLUME: 230-232
AUTORES: Lopes, A; Patrícia Nunes; Paula M Vilarinho; Regina da Conceição Corredeira Monteiro; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: Key Engineering Materials, VOLUME: 230-232
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TÃTULO: Thin film metal oxide semiconductors deposited on polymeric substrates
AUTORES: Fortunato, E; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H; Ferreira, I; Costa, MEV; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Transport and Microstructural Phenomena in Oxide Electronics in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 666
AUTORES: Fortunato, E; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H; Ferreira, I; Costa, MEV; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Transport and Microstructural Phenomena in Oxide Electronics in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 666
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TÃTULO: New steps to improve a-Si:H device stability by design of the interfaces Full Text
AUTORES: Rodrigo Martins; Isabel Ferreira; Ana Cabrita; Hugo Águas; Vitor Silva; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials, VOLUME: 3, NÚMERO: 3
AUTORES: Rodrigo Martins; Isabel Ferreira; Ana Cabrita; Hugo Águas; Vitor Silva; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials, VOLUME: 3, NÚMERO: 3
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Scopus CrossRef515
TÃTULO: Application of Amorphous Silicon Thin-Film Position-Sensitive Detector to Optical Rules Full Text
AUTORES: Martins, R; Teodoro, P; Soares, F; Ferreira, I; Guimarães, N; Fortunato, E; Borges, J; José, G; Groth, A; Schultze, L; Berndt, D; Reichel, F; Stam, F;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials - Adv. Eng. Mater., VOLUME: 3, NÚMERO: 3
AUTORES: Martins, R; Teodoro, P; Soares, F; Ferreira, I; Guimarães, N; Fortunato, E; Borges, J; José, G; Groth, A; Schultze, L; Berndt, D; Reichel, F; Stam, F;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials - Adv. Eng. Mater., VOLUME: 3, NÚMERO: 3
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CrossRef516
TÃTULO: Role of ion bombardment on the properties of a-Si:H films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
517
TÃTULO: Fast and cheap method to qualitatively measure the thickness and uniformity of ZrO2 thin films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
518
TÃTULO: Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
519
TÃTULO: Plasma diagnostics of a PECVD system using different R.F. electrode configurations Full Text
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
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TÃTULO: Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films Full Text
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E.; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E.; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
