Elvira Maria Correia Fortunato


AuthID: R-000-4M5

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951
TÍTULO: Role of ion bombardment on the properties of a-Si : H films
AUTORES: Aguas, H ; Martins, R ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus
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952
TÍTULO: Role of soldering parameters on the electrical performances presented by Cu-Sn-Cu joints used in power diodes  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Ferreira, J; Goncalves, C; Nunes, P; Fortunato, E ; Marvao, AP; Martins, JI ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Joint FEMS Symposium/E-MRS Symposium H Strain in Materials: Analysis, Relatation and Properties in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A-STRUCTURAL MATERIALS PROPERTIES MICROSTRUCTURE AND PROCESSING, VOLUME: 288, NÚMERO: 2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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953
TÍTULO: Role of the gas temperature and power to gas flow ratio on powder and voids formation in films grown by PECVD technique  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Silva, V; Ferreira, I ; Domingues, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Symposium D - Measurement Techniques for Technological Plasmas at the 1999 E-MRS Spring Meeting in VACUUM, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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954
TÍTULO: Role of the gas temperature and power to gas flow ratio on powder formation and properties of films grown by the PECVD technique  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Silva, V; Ferreira, I ; Domingues, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, VOLUME: 69
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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955
TÍTULO: Silicon films produced by PECVD under powder formation conditions
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
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956
TÍTULO: Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films
AUTORES: Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials in Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
INDEXADO EM: Scopus
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957
TÍTULO: Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films
AUTORES: Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials in PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
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958
TÍTULO: Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films  Full Text
AUTORES: águas H.; Silva V.; Ferreira I.; Fortunato E. ; Martins R.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4
INDEXADO EM: Scopus CrossRef
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959
TÍTULO: The effects of La on the dielectric properties of lead iron tungstate Pb(Fe2/3W1/3)O-3 relaxer ceramics  Full Text
AUTORES: Zhou, LQ ; Vilarinho, PM ; Mantas, PQ; Baptista, JL; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF THE EUROPEAN CERAMIC SOCIETY, VOLUME: 20, NÚMERO: 8
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 28
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960
TÍTULO: Thin Film Position Sensitive Detectors: From 1D to 3D Applications
AUTORES: Rodrigo Martins; Elvira Fortunato ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Technology and Applications of Amorphous Silicon - Springer Series in Materials Science
INDEXADO EM: CrossRef: 9
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