Jacques Jolly
AuthID: R-006-KC6
1
TÃTULO: Capacitively coupled radio-frequency hydrogen discharges: The role of kinetics Full Text
AUTORES: Marques, L ; Jolly, J; Alves, LL ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 102, NÚMERO: 6
AUTORES: Marques, L ; Jolly, J; Alves, LL ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 102, NÚMERO: 6
2
TÃTULO: Electrical Characterization of Capacitively Coupled Radio Frequency Discharges in Hydrogen Full Text
AUTORES: Luis S A Marques ; Jacques Jolly; Luis L Alves ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 4, NÚMERO: SUPPL.1
AUTORES: Luis S A Marques ; Jacques Jolly; Luis L Alves ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 4, NÚMERO: SUPPL.1
3
TÃTULO: Systematic characterization of low-pressure capacitively coupled hydrogen discharges Full Text
AUTORES: Salabas, A; Marques, L ; Jolly, J; Gousset, G; Alves, LL ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 95, NÚMERO: 9
AUTORES: Salabas, A; Marques, L ; Jolly, J; Gousset, G; Alves, LL ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 95, NÚMERO: 9
4
TÃTULO: Capacitively coupled hydrogen discharges: Modeling vs. experiment
AUTORES: Marques, L ; Jolly, J; Gousset, G; Alves, LL ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 8th Thermal Plasma Processes Symposium in HIGH TEMPERATURE MATERIAL PROCESSES, VOLUME: 8, NÚMERO: 4
AUTORES: Marques, L ; Jolly, J; Gousset, G; Alves, LL ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 8th Thermal Plasma Processes Symposium in HIGH TEMPERATURE MATERIAL PROCESSES, VOLUME: 8, NÚMERO: 4
5
TÃTULO: Two-dimensional modelling of SiH4-H-2 radio-frequency discharges for a-Si : H deposition
AUTORES: Leroy, O; Gousset, G; Alves, LL ; Perrin, J; Jolly, J;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, VOLUME: 7, NÚMERO: 3
AUTORES: Leroy, O; Gousset, G; Alves, LL ; Perrin, J; Jolly, J;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, VOLUME: 7, NÚMERO: 3
